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高通量組織研磨破碎儀操作步驟分享

高通量組織研磨破碎儀是針對(duì)快速高效樣品制備的樣品前處理設(shè)備，其典型研磨時(shí)間為45秒，能同時(shí)處理2個(gè)或多個(gè)樣品,樣品體積從0.2ml直到100ml，非常好地滿足了高通量研磨的要求。高通量組織研磨破碎儀的亮點(diǎn)在于大限度的操作便捷性和安全性。由于采用了集成電機(jī)開關(guān),因此只有當(dāng)機(jī)蓋處于閉合狀態(tài)下儀器才能啟動(dòng)。獨(dú)有的EasyClamp系統(tǒng),可輕松安全地緊固大體積為100ml的研磨罐。為了滿足食品和制藥行業(yè)的要求，組織研磨破碎儀的EasyClamp系統(tǒng)和擺臂由高精度的不銹鋼制成,外殼材質(zhì)...

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調(diào)整臭氧分析儀應(yīng)當(dāng)以校正為主，標(biāo)定為輔

臭氧檢測(cè)儀是一種常用的氣體檢測(cè)儀器，采用紫外線吸收法的原理進(jìn)行臭氧濃度測(cè)量，今天主要為大家來介紹一下臭氧分析儀的校準(zhǔn)方法，希望可以幫助大家更好使用儀器。臭氧濃度氣體檢測(cè)儀應(yīng)當(dāng)是校正為主，標(biāo)定為輔。必須校正，條件許可的時(shí)候再標(biāo)定。關(guān)于臭氧分析儀，目前國(guó)內(nèi)還沒有統(tǒng)一的檢定規(guī)范，計(jì)量單位目前建立的分析儀器校準(zhǔn)裝置，是利用臭氧發(fā)生器產(chǎn)生一定濃度的臭氧，然后將被檢儀器測(cè)出的數(shù)據(jù)同紫外光度法臭氧校準(zhǔn)儀器的標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比對(duì)，得到一系列修正值。使用者應(yīng)當(dāng)按照修正值和不確定度，制作校準(zhǔn)曲線或者校...

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大氣低溫等離子清洗機(jī)的幾種頻率區(qū)別與運(yùn)用講解

今天小編給大家講講大氣低溫等離子清洗機(jī)的幾種頻率區(qū)別與運(yùn)用：常用的等離子體激起頻率有三種：激起頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不平等離子體發(fā)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只要幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。超聲等離子體發(fā)作的反響為物理反響，射頻等離子體發(fā)作的反響既有物理反響又有化學(xué)反響，微波等離...

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高通量組織研磨破碎儀是如何提升種子組織研磨的效率和效果的呢?

為了提升種子質(zhì)量，保障生產(chǎn)安全，種子檢驗(yàn)工作受到了重視。而隨著工作量的增多，種子組織研磨的效率和效果也必須要提高，在此背景下，使用高通量組織研磨儀來替代人工研磨成為了很多種子檢驗(yàn)室shou選，那么下面我們就來看一看高通量組織研磨破碎儀是如何提升種子組織研磨的效率和效果的呢?在有關(guān)種子核糖核酸(RNA)、蛋白質(zhì)、脫氧核糖核酸(DNA)的研磨分離提取中，種子研磨是可少的工作，而面對(duì)數(shù)量眾多的種子研磨工作，如何又快又好的完成研磨，讓不少檢驗(yàn)人員煩了愁，不過當(dāng)還在為種子組織研磨而發(fā)愁...

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等離子清洗機(jī)的真空度是影響等離子表面處理效果重要的因素之一

等離子清洗機(jī)的真空度，是影響等離子表面處理效果重要的因素之一。國(guó)內(nèi)品牌的清洗機(jī)常用的真空度壓力單位基本是帕(Pa)，但是不同國(guó)外品牌的清洗機(jī)就會(huì)出現(xiàn)托(Torr)、巴(bar)等單位，相互之間如何換算，有的時(shí)候不太容易搞得清楚。今天我們就來梳理一下常見的幾個(gè)真空壓力單位，供大家參考。1等離子清洗機(jī)的真空、真空度和壓力單位：清洗機(jī)是指真空反應(yīng)腔室里面低于標(biāo)準(zhǔn)大氣壓的氣體狀態(tài)，微觀上來講就是腔體內(nèi)的氣體分子密度小于大氣壓的分子密度，不同的真空狀態(tài)意味著不同的分子密度。真空度反應(yīng)的...

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等離子清洗機(jī)如何提高表面附著力?

等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。今天小編給大家講講等離子清洗機(jī)為什么需...

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生物安全柜如何安全使用?

導(dǎo)讀：生物安全柜（Biologicalsafetycabinet，BSC）是為操作原代培養(yǎng)物、菌毒株以及診斷性標(biāo)本等具有感染性的實(shí)驗(yàn)材料時(shí)，用來保護(hù)操作者本人、實(shí)驗(yàn)室環(huán)境以及實(shí)驗(yàn)材料，使其避免暴露于上述操作過程中可能產(chǎn)生的感染性氣溶膠和濺出物而設(shè)計(jì)的。特別是防控以來各醫(yī)療機(jī)構(gòu)建設(shè)了大量的核酸實(shí)驗(yàn)室，都會(huì)用到生物安全柜，那么關(guān)于生物安全柜如何安全使用，您又了解多少？根據(jù)生物安全柜的氣流和隔離屏障設(shè)計(jì)可分為3個(gè)等級(jí)：Ⅰ級(jí)、Ⅱ級(jí)（A1、A2、B1、B2型）和Ⅲ級(jí)。應(yīng)根據(jù)實(shí)驗(yàn)樣品的生...

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等離子清洗機(jī)可以解決光刻膠的問題

隨著半導(dǎo)體工業(yè)的迅速發(fā)展，對(duì)晶圓片加工的要求也迅速提高。硅片需去除光刻膠，且需提升硅片材料表面的粘合劑、去除有機(jī)污染物等要求，由于其種種原因，目前硅片需去除光刻膠，一般都是采用等離子清洗方式，以解決光刻膠問題。為了了解去除光刻膠的原理，首先要弄清楚光刻膠上含有哪些雜質(zhì)和污染物，然后對(duì)這些雜質(zhì)和污染物進(jìn)行分類。在半導(dǎo)體制造過程中，需要一些有機(jī)物污染物和氧化物的存在，而且由于工藝過程總是在凈化室中有人工操作，因此半導(dǎo)體圓片不可避免地受到各種雜質(zhì)的污染。根據(jù)來源、性質(zhì)等，可大致分為...

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